生产厂家

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

仪器型号

JGP-450C

购买日期

2015年

安放地点

12号教学楼116

主要规格和

技术参数

1、 溅射室极限真空度：≤6.67x10^-6 Pa (经烘烤除气后)；

2、 进样室极限真空度：≤6.67x10^-4 Pa (经烘烤除气后)；

3、 系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；

4、 系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气：溅射室40分钟可达到6.6x10^-4   Pa；进样室40分钟可达到6.6x10^-3   Pa；

5、 系统停泵关机12小时后，溅射室真空度：≤3 Pa，进样室真空度：≤10 Pa；

6、 系统采用带有空气锁的双室结构，主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片加热公自转台、进样室、样品库、退火炉、反溅靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

主要功能及特色

1、用于溅射各类金属和氧化物薄膜；

2、可实现三种材料共溅射；

3、样品尺寸小于φ5cm；

4、目前可溅射的材料如下：Al、Cu、Ti、Ag、Au等。

主要附件及配置

直流电源、射频电源、退火装置

送样说明

仪器负责人

刘江云

Tel:   022-60216409

E-Mail: 1026545136@qq.com

预约网址

天津理工大学大型仪器共享平台 http://202.113.64.51/genee/