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高真空双室磁控溅射系统
2019-11-01 13:32   审核人:



仪器中文名

高真空双室磁控溅射系统

生产厂家

中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司

仪器型号

JGP-450C

购买日期

2015

安放地点

12号教学楼116

主要规格和

技术参数

1、 溅射室极限真空度:≤6.67x10-6 Pa (经烘烤除气后)

2、 进样室极限真空度:≤6.67x10-4 Pa (经烘烤除气后)

3、 系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S

4、 系统短时间暴露大气并充干燥氮气开始抽气:溅射室40分钟可达到6.6x10-4   Pa;进样室40分钟可达到6.6x10-3   Pa

5、 系统停泵关机12小时后,溅射室真空度:≤3 Pa,进样室真空度:≤10 Pa

6、 系统采用带有空气锁的双室结构,主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片加热公自转台、进样室、样品库、退火炉、反溅靶、磁力送样机构、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。

主要功能及特色

1、用于溅射各类金属和氧化物薄膜;

2、可实现三种材料共溅射;

3、样品尺寸小于φ5cm

4、目前可溅射的材料如下:AlCuTiAgAu等。

主要附件及配置

直流电源、射频电源、退火装置

送样说明


仪器负责人

刘江云

Tel:   022-60216409

E-Mail: 1026545136@qq.com

预约网址

天津理工大学大型仪器共享平台 http://202.113.64.51/genee/

 

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