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聚焦离子束-电子束双束设备
2016-04-28 13:25  

 

 

仪器中文名

聚焦离子束-电子束双束设备

仪器英文名

FIB-SEM system                                                                                                        

型号

Helios NanoLab 460HP                                                                                                        

制造商

FEI                                                                                                        

购买年份

2015

仪器工程师

王磊

Tel: 022-60216409

E-Mail : wl00909004@163.com

安放地点

12号教学楼一层

技术指标

1、在最佳工作距离的分辨率:

      ≤0.6 nm @ 2 kV(二次电子成像分辨率)

      ≤0.7 nm @ 1 kV(二次电子成像分辨率)

  在双束交叉点的分辨率:

      ≤0.6 nm @ 15 kV(二次电子成像分辨率)

      ≤0.9 nm @ 5 kV(二次电子成像分辨率)

      ≤1.2 nm @ 1 kV(二次电子成像分辨率)

2、电子束着陆电压:20 V 30 kV

3、离子束加速电压:500 V 30 kV

4、离子束束流强度:0.1 pA ~ 65 nA

5、离子束分辨率:2.5 nm @ 30 kV(使用单边测量法)

≤4.0 nm @ 30 kV(利用统计测量法)

6、沉积及刻蚀辅助材料: PtCTEOSWXeF2

7、配备有纳米机械手

8、配备有防样品被空气氧化的传输装置

主要功能

1、二次电子、背散射电子以及镓离子成像

2、三维重构和数据分析

3TEM样品的制备

4、半导体元器件、集成电路的修补和失效分析

5EDS能谱分析(点、线、面)

应用范围

用于材料、化学化工、半导体、地质学、生物学、物理学等领域

 

 

 

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